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產品型號：STGX-60-12

爐管尺寸：Φ60×1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：該產品廣泛應用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGX-60-14

爐管尺寸：Φ60×1000mm

額定溫度：1400℃

控溫精度：±1℃

應用領域：用于高等院校、科研院所、工廠企業等行業實驗室高溫熱處理工藝，適用于金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料等新材料領域

產品型號：STGL-60-17

爐管尺寸：Φ40×1500mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGL-40-17

爐管尺寸：Φ40×900mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：單溫區立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGL-18-12

爐管尺寸：Φ25×900mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：單溫區立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGC-80-12

爐管尺寸：Φ80×1000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：化學氣相沉積(CVD)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是半導體工業中用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料

產品型號：STG-245-12HG

爐管尺寸：Φ245×800mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STG-100-17-3

爐膛尺寸：Φ100×1500mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：三溫區管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STG-60-17E

爐膛尺寸：Φ60x1000mm

額定溫度：1700℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1700℃管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STGX-60-12H

爐管尺寸：Φ60×1200mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理

產品型號：STGX-40-12

爐管尺寸：Φ40×1000mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：1200℃管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。

產品型號：STGL-336-12-3

爐管尺寸：Φ336×1500mm

額定溫度：1200℃

控溫精度：±1℃

應用領域：立式管式爐應用于高等院校、科研院所、工廠企業、石油化工、航空航天等行業的金屬材料、陶瓷材料、納米材料、半導體材料、粉末冶金等新材料領域的燒結和高溫熱處理。